氣密罐式爐根據(jù)溫度的不同配有直接或間接加熱裝置。這類爐型適于各種需要預(yù)定的保護(hù)或反應(yīng)氣體環(huán)境的熱處理工藝。即便是對(duì)于 600 ℃ 以下的真空熱處理，這種緊湊型的爐型同樣適合。爐腔由一個(gè)氣密罐構(gòu)成，氣密罐在門(mén)范圍內(nèi)配有一個(gè)水冷卻裝置，用于保護(hù)專用的密封裝置。配有相應(yīng)安全裝置的氣密爐同樣適于氫氣這種反應(yīng)氣體環(huán)境下的應(yīng)用，或配以 IDB 工序包用于惰性排膠或熱解工藝。

根據(jù)工藝要求的溫度范圍的不同，采用不同的爐型：

NRA ../06 型，最高溫度為 650 ℃

• 安裝在氣密罐內(nèi)部的加熱元件
• 溫度均勻性達(dá)到 ∆T 6 K，在 100 - 600 的有效范圍內(nèi)
• 由 1.4571 材質(zhì)制成的氣密罐
• 在氣密罐后部區(qū)域設(shè)有循環(huán)鼓風(fēng)機(jī)，用于優(yōu)化溫度均勻性

NRA ../09 型，最高溫度為 950 ℃

• 在干餾器外部及周邊分布的加熱元件和一個(gè)額外的爐門(mén)加熱裝置
• 溫度均勻性達(dá)到 ∆T 6 K，在 200 - 900 的有效范圍內(nèi)
• 由 1.4841 材質(zhì)制成的氣密罐
• 在氣密罐后部區(qū)域設(shè)有循環(huán)鼓風(fēng)機(jī)，用于優(yōu)化溫度均勻性

NR ../11 型，最高溫度為 1100 ℃

• 在氣密罐外部及周邊分布的加熱元件和一個(gè)額外的爐門(mén)加熱裝置
• 溫度均勻性達(dá)到 ∆T 10 K，在 200 - 1050 的有效范圍內(nèi)
• 由 1.4841 材質(zhì)制成的氣密罐